多重曝光科幻影视

中国芯片，早就能突围了：浸润式光刻机成功制备5nm

中国现在手里有一批浸润式光刻机，正在尝试用它们去做更先进的芯片。厂里有人已经开始把设计分成更多次光刻来跑，目标是把5纳米，甚至3纳米“硬啃”出来。说白了，禁令没把路完全堵死，至少还留了条弯路在那儿。

我先把道理讲清楚，别绕弯儿。做芯片最关键的那台机器就是光刻机，能把线刻得多细，全看“光”的分辨率。光的分辨率跟波长挂钩，波长越短，能刻的线越细。普通干式DUV用的是193纳米那种光，空气里跑的；浸润式的办法是在镜头和硅片之间灌一层水，把光放到水里走，这样光在水

只要了解了景深、光围、光比、大逆光、小逆光、前45度光、135度光、反光板、营造光、平光、侧光、七分人像、三分人像、全身照、俯拍、仰拍、感光度、光比、离机闪、引导线、兴趣点、主体、陪体、黄金分制、对角线、剪影、高光溢出、死黑、死白、自动对焦、焦平面、白平衡、白

讲清楚点儿，光刻这条路其实分两拨：一拨想把光的波长弄得更短，像当年有人看好157nm；另一拨不是换光源，而是改变光在介质里的传播状态，让它“看起来”更短，浸润式DUV就是后者。后来又冒出个极紫外EUV，用13.5nm的光源一次成像，理论上省事多了，但设备贵得吓

半导体芯片制造正悄然改变全球科技格局，而这场变革中有一个声音格外引人注目。2023年10月，被誉为"光刻机之父"的林本坚公开表示中国能用现有设备制造5纳米芯片，引发全球科技圈震动。美国对华实施严格技术封锁，却最终不得不承认中国的突破。这背后究竟有什么不为人知的

美国目前在高端芯片曝光设备上高度依赖ASML，因缺乏本土可比技术。如今美国芯片产业可能迎来重大变革，新创公司Substrate决定进军全球芯片曝光机市场。路透、金融时报等媒体报道，Substrate计划打破对ASML的依赖，研发能与ASML极紫外光（EUV）设

2025年9月，中芯国际在产线上悄悄试了一台新机器，是上海宇量升科技做的浸没式DUV光刻机，没靠进口，全是中国自己拼出来的，能做28纳米芯片，还能用多重曝光技术试试7纳米，消息一传开，全球芯片圈都盯上了，英国《金融时报》最先发了报道，TrendForce和In

当全世界都认为，没有高端芯片、没有安卓系统、没有美国技术，华为将彻底崩塌时，其却用一场从底层重构的技术革命，完成了人类科技史上罕见的“绝地重生”。

小学时代常常在冬日日落后的蓝调时刻里走回家，天空是最为深邃的蓝色，飞鸟在天上盘旋，暖黄色的灯光洒在街边的橱窗上，冷意带来的是对温暖的感知，空气中夹杂着居民楼中飘散出来炒菜的香气。

从下游来看，9月4日，华为官宣三折叠屏手机Mate XTs非凡大师搭载麒麟9020芯片，这是时隔4年之后，华为麒麟芯片首次公开展示。

中芯国际正在试运行上海宇量昇科技研发的深紫外（DUV）光刻机，这款光刻机通过多重曝光，可生产5纳米芯片。宇量昇设备大部分零部件已实现国产化。